..На главную.. . ..Введение.. . ..Проект.. . ..Публикации.. . ..Участники.. . ..Семинары.. . ..Новости.. . ..Ссылки.. . .. ..


Разрабатываются 2 источника отрицательных ионов водорода:

  • Поверхностно-плазменный источник с пеннинговской геометрией электродов
  • Тандемный

    Поверхностно-плазменный источник отрицательных ионов водорода с пеннинговской геометрией электродов
    На имеющемся стенде проведены исследовательские работы на макете поверхностно-плазменного источника отрицательных ионов с пеннинговской геометрией электродов.

    Команда на стенде.

    Ионный источник.

    Лето 2002 года. На стенде получен и изучен стационарный пучок отрицательных ионов водорода током 5 мА. Измеренная величина нормализованного эмиттанса 0,3 p мм мрад удовлетворяет предъявляемым требованиям.

    Тандемный источник отрицательных ионов водорода

    Предложена и опубликована новая идея стационарного тандемного источника отрицательных ионов водорода с током до 50 мА.
    Подробности:

    G. Dimov. Tandem surface-plasma source: A new concept for a dc negative ion source. Review of Scientific Instruments 73 (2002) 970-972. [.pdf файл]

    Разработан технический проект стационарного источника отрицательных ионов водорода c током до 50 мА.

    Осень 2002 года. Изготовлен генератор плазмы, представляющий собой магнитную мультипольную ловушку низкотемпературной плазмы.


    © 1999-2023    Сергей Таскаев. Ответит на все ваши вопросы по проекту и страничке.